写真 e-mail: ogawa.shuuichi@nihon-u.ac.jp 31号館609室 【専門分野】薄膜・表面界面物性、電気電子材料工学、等 【担当科目】電気数学Ⅰ、電磁気学及び演習Ⅲ、他 -37- 【研究室の構成と方針】 本研究室で実施する卒業研究は優れた研究成果を出すことだけが目的ではありません。卒業研究では研究活動を通じて、皆さんが卒業後に社会人／技術者として必要となる知識の習得方法および能動的・主体的な態度等を身につけることを目指します。そのため、研究面に留まらず、学業面や生活面でも積極的なサポート／アドバイスをしていきたいと思います。優れた研究成果創出を目指して本格的に研究活動を行いたい人には大学院への進学を勧めます。大学院では世界を見据えた最先端の研究を進めていきます。 【研究内容】 本研究室では既存の半導体デバイスで使われている材料を別の材料で置き換えることによって、消費エネルギーの削減や高速の演算が行える高性能な半導体デバイスを創出することを目的としています。この目的を達成するため、以下のテーマの研究を進めています。また、日本大学内だけに限らず、他大学や国の研究所との共同研究も積極的に進めています。 ① 半導体表面への絶縁膜形成プロセスに関する研究 紫外線光電子分光法による半導体表面のリアルタイム観察を通じて、SiやSiCウェハ上への高品質ゲート絶縁膜形成方法やその成膜プロセスにおける界面欠陥生成メカニズムの解明を目指します。 ② 二次元材料物質のデバイス応用に関する研究 グラフェンや六方晶窒化ホウ素などの二次元材料物質をガスセンサや電気分解用電極に応用するため、二次元材料物質への異種原子ドーピング技術の開発やその評価方法の研究を進めます。 ③ 炭素系材料の効率的合成方法の開発とそのデバイス応用への研究 ダイヤモンドや非晶質炭素、グラファイトなどの炭素材料を電子デバイスに応用するため、プラズマCVDによる材料合成やその評価方法の開発を進めます。 ④ AIを用いた実験・データ解析プロセスの自動化に関する研究 上記の研究を効率的に進めるためには実験やデータ解析の自動化も必要不可欠です。外部の放射光施設や研究開発法人と連携し、AIを活用した実験機器の自動制御や実験データ解析の自動化に関する研究を進めます。 研究室の様子はウェブページもご覧ください。 https://ogawalab.ee.cit.nihon-u.ac.jp/ 【研究設備】 ⚫ 光電子制御プラズマ発生装置 ⚫ ４探針プローブ ⚫ 顕微ラマン分光装置（供用設備） おがわ小川しゅういち 修一准教授 博士(工学)
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